Guangzhou Ideale levering van permanente ESD PEEK-film met oppervlakteweerstand van 10⁶–10⁹ Ω/sq, hoge temperatuurbestendigheid -200℃ tot 260℃, lage ontgassing, met koolstofnanobuisjes gemodificeerd ESD PEEK-blad voor wafervacuümklauwplaat, sondestation, elektronische armatuur. Aangepaste dikte en maat beschikbaar.
ESD PEEK-film wordt intern gevuld en gemodificeerd met koolstofnanobuisjes of ultrafijn carbonzwart en vervaardigd via extrusiegiet- of spiegelkalanderprocessen. Het integreert uitstekende statisch-dissipatieve prestaties, weerstand tegen hoge temperaturen, mechanische robuustheid, weerstand tegen oplosmiddelreiniging, vlamvertraging en stralingsweerstand. Het wordt veel toegepast in de productie van halfgeleiders en in de nieuwe energie-industrie.
Antistatische PEEK-film verschilt fundamenteel van conventionele statisch-dissipatieve plastic films met een oppervlaktecoating. Films met een oppervlaktecoating zijn goedkoop en transparant, maar hun antistatische coating delamineert boven de 120°C en faalt volledig na reiniging met oplosmiddel. Dergelijke films zijn alleen geschikt voor kortetermijntoepassingen bij lage temperaturen. Geleidende vulstoffen in ESD PEEK-film zijn daarentegen uniform verspreid binnen de PEEK-matrix, waardoor permanente statisch-dissipatieve prestaties worden geleverd. Er treedt geen delaminatie van de coating of antistatische storing op tijdens het polijsten, reinigen met oplosmiddelen of langdurig gebruik bij hoge temperaturen.
Guangzhou Ideal is sinds 2014 gespecialiseerd in onderzoek en productie van PEEK-films, met meer dan 12 jaar professionele ervaring in de sector. Onze ESD PEEK-filmserie omvat hoogwaardige soorten koolstofnanobuisjes (CNT), halfgeleiderkwaliteiten, algemene industriële kwaliteiten gevuld met ultrafijn geleidend carbonzwart en met koolstofvezel versterkte ESD-kwaliteiten.
1. CNT hoogwaardige halfgeleiderkwaliteit
Koolstofnanobuisjes zijn eendimensionale buisvormige nanokoolstofmaterialen met een ultrahoge aspectverhouding. Er kan een continu driedimensionaal geleidend netwerk worden gevormd met een extreem lage vulstofbelasting. Alle koolstofnanobuisjes zijn volledig ingekapseld door de harsmatrix, zonder dat er vrije koolstofdeeltjes ontstaan. Deze kwaliteit is ideaal voor zeer zuivere halfgeleiderprecisieprocessen, waaronder het hanteren van wafers, bediening van sondestations, vacuümkamersystemen en optische toepassingen.
2. Ultrafijn geleidend roet van industriële kwaliteit
Deze kwaliteit bestaat uit bolvormige koolstofdeeltjes die geleidende netwerken vormen door contact tussen deeltjes en heeft een stabiel oppervlakteweerstandsbereik van 10⁶–10⁹ Ω/sq met een uniforme weerstandsverdeling en zwakke anisotropie. Om gekwalificeerde ESD-prestaties te bereiken is een relatief hoge vulstofbelasting vereist. Overmatige toevoeging van roet vermindert de taaiheid van de film en veroorzaakt door wrijving veroorzaakte koolstofafscheiding met een slechte oppervlaktereinheid. Het is niet toepasbaar voor hoogwaardige halfgeleiderwafelprocessen en wordt voornamelijk gebruikt voor gewone elektronische armaturen, lithiumbatterijcomponenten, gereedschappen voor hoge temperaturen en algemene explosieveilige apparatuur voor kosteneffectieve massaproductie.
3. Gehakte koolstofvezelversterkte kwaliteit
Op PAN gebaseerde gehakte koolstofvezel zorgt voor zowel statische dissipatie als structurele versterking, waardoor verbeterde mechanische sterkte en slijtvastheid wordt geboden. De oppervlakteweerstand varieert van 10⁴–10⁷ Ω/sq. De belangrijkste beperking is de geleidende anisotropie die wordt gevormd tijdens het extrusiegieten, resulterend in een kleine MD/TD-weerstandsafwijking. Dit veelzijdige vlaggenschip wordt veel gebruikt voor voeringen van halfgeleiderarmaturen, SMT-pakkingen voor hoge temperaturen en gereedschap voor lithiumbatterijen.
Opmerking: Niet alle met koolstof gevulde PEEK-films beschikken over gekwalificeerde ESD-prestaties. Hoogvuller CF30 koolstofrijke PEEK vertoont een overmatige geleidbaarheid en kan niet worden gebruikt als standaard statisch-dissipatieve ESD-film.
Met meer dan een decennium aan technische accumulatie, investeringen in hoogwaardige productieapparatuur en gestandaardiseerde kwaliteitscontrolesystemen heeft Guangzhou Ideal kritische kwaliteitsproblemen bij de productie van ESD PEEK-films opgelost.
1. Op maat gemaakte extrusieapparatuur met dubbele schroef en geoptimaliseerde schroefconfiguraties balanceert een uniforme dispersie van het vulmiddel en een intacte vezelstructuur, waardoor weerstandsdrift bij hoge temperaturen wordt geëlimineerd en een stabiele oppervlakteweerstand wordt gegarandeerd na herhaalde thermische cycli.
2. Door de tractiespanning en trekverhouding te verlagen en een gradiënt-gloeibehandeling toe te passen, verminderen we effectief geleidende anisotropie en richtingsweerstandsafwijkingen.
3. Nauwkeurig gradiëntgloeien met strikt gecontroleerde temperatuurstijging en afkoelsnelheden maakt resterende interne spanning vrij, waardoor kromtrekken en krullen na het snijden en stansen aanzienlijk wordt verminderd.
4. Gemodificeerde granulatie wordt voltooid in een stofvrije omgeving om de grensvlakhechting tussen vezels en matrix te beschermen. Dit lost het losraken van het grensvlak en door wrijving veroorzaakte koolstofafscheiding op, waardoor contaminatie met microdeeltjes en krassen op de wafer worden voorkomen.
ESD PEEK-film van halfgeleiderkwaliteit biedt een stabiele soortelijke weerstand van 10⁶–10⁹ Ω/sq voor uniforme statische ontlading, waardoor doorslag van wafers en IC-chips door hoogspanning wordt voorkomen. Semi-isolerende kwaliteiten (10¹⁰–10¹² Ω/sq) balanceren isolatie en statische onderdrukking met minimale drift bij hoge temperaturen. De film ondersteunt continu gebruik bij 260°C waarbij fluctuaties in de resistiviteit binnen 5% worden gecontroleerd, waardoor statische accumulatie in vacuümomgevingen wordt geëlimineerd.
ESD PEEK-folie biedt een continu gebruikstemperatuurbereik van -200°C tot 260°C en hittebestendigheid op korte termijn tot 340°C. Het blijft scheurbestendig bij lage temperaturen en is bestand tegen verzachting, thermische stroming, vervorming en kromtrekken bij hoge temperaturen, waardoor stabiele dimensionale prestaties behouden blijven onder wisselende thermische cycli.
De film heeft een hoge trek- en scheursterkte. Ultradunne specificaties zijn bestand tegen breuk en herhaalde buigscheuren. Met zelfsmerende eigenschappen, een lage wrijvingscoëfficiënt en lage slijtagesnelheid levert het uitstekende structurele stabiliteit op de lange termijn. Lage kruipvervorming zorgt ervoor dat pakkingen en voeringfilms niet structureel bezwijken onder aanhoudende hoge temperatuurdruk.
Antistatische PEEK-film is bestand tegen de meeste sterke zuren, logen, ketonen, esters, alcoholen en industriële reinigingsmiddelen, waarbij alleen geconcentreerd zwavelzuur het PEEK-substraat kan oplossen. Met ultra-lage ionische uitloging en minimale deeltjesafscheiding, voldoet de film aan de ultraschone werkplaatsnormen van Klasse 1 en Klasse 10 en vermijdt verontreiniging van wafers en optische lenzen.
1. Productie van halfgeleiderwafels
Als kernmateriaal voor halfgeleiderprecisieprocessen maken de permanente statische dissipatie van ESD PEEK-film, de stabiliteit bij hoge temperaturen, de lage ontgassing en de nul-poederafscheidingseigenschappen het ideaal voor wafer-vacuümklauwvoeringen, thermisch isolerende ESD-pakkingen voor sondestations en isolatiefilms voor waferdragers.
2. Precisie-elektronica, PCB's en testapparatuur
De uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen maakt de productie mogelijk van ESD-isolatiefilms voor functionele testarmaturen bij hoge temperaturen, FPC-beschermingsfilms voor hoge temperaturen, SMT thermische gereedschapspakkingen en elektronische matrijsisolatiecomponenten.
3. Lithiumbatterij en nieuwe energie-industrie
ESD-isolatiefilms voorkomen kortsluiting en brandrisico's veroorzaakt door wrijvingselektrificatie van elektrodeplaten. Vlamvertragende, hittebestendige en antistatische voeringfilms worden aangebracht op explosiebestendige batterijapparatuur om de algehele operationele veiligheid te verbeteren.
Oorzaak: Door het ontbreken van gradiëntgloeien blijven er restspanningen in de antistatische PEEK-film achter. Verwerking bij hoge temperaturen maakt restspanning vrij en ontspant polymeerketens, waardoor slippen en reconstructie van het interne geleidende netwerk ontstaat. Dit resulteert in een willekeurige afwijking van de weerstand, waarbij lokale gebieden isolerend of overmatig geleidend worden.
Oorzaak: slechte vezel-matrix grensvlakbinding, in plaats van inherente kwetsbaarheid van koolstofvezels.
A. Overmatige afschuiving van de schroef tijdens het granuleren verplettert de koolstofvezels en beschadigt de harsinkapselingslaag.
B. Achtergebleven commercieel lijmmiddel op ruwe koolstofvezels veroorzaakt loslating van het grensvlak na blootstelling aan hoge temperaturen.
Oplossing: Verwijder resterende vezellijming en pas PEEK-specifieke aangepaste lijmmiddelen toe om de grensvlakbinding tussen vezel en matrix te versterken en door wrijving veroorzaakte deeltjeschips te onderdrukken.
Oorzaak: De agglomeratie van koolstofvezels tijdens het granuleren vormt na het gieten oppervlaktevezelputten. Overlappende vezels op agglomeratiepunten creëren gelokaliseerde microgebieden met een hoge geleidbaarheid en een drastisch lage weerstand, wat het risico van lokale elektrische ontsteking met zich meebrengt.
Controlemethode: Optimaliseer de granulatieparameters om de dispersie van het vulmiddel en het behoud van de vezellengte in evenwicht te brengen. Implementeer meerpunts transversale weerstandsinspectie over de gehele filmbreedte, in plaats van alleen de kop- en staartsecties van de rol te testen.
1. Ongekwalificeerde gloeitemperatuurcurve.
2. Een te hoge wikkelspanning veroorzaakt restopslagspanning. Hoewel de film vlak is bij fabrieksinspectie, trekt hij geleidelijk krom naarmate de interne spanning vrijkomt tijdens opslag.
Oplossing: Gebruik aangepaste wikkelparameters met lage spanning voor dunne films; standaardparameters voor films van 0,3–0,5 mm zijn niet van toepassing.
1. We gebruiken internationaal geproduceerde, zeer zuivere antistatische PEEK-grondstoffen en combineren deze met volwassen eigen productietechnologie. Onze ESD PEEK-film vermijdt lokale defecten veroorzaakt door agglomeratie van koolstofdeeltjes, inclusief gelokaliseerde zones met lage weerstand en isolerende dode plekken. Een slechte dispersie van het vulmiddel veroorzaakt gemakkelijk plaatselijke elektrostatische storingen en kortsluitingen op de werkstations van klanten, wat resulteert in batchverlies en aanzienlijke economische verliezen.
2. Onze ESD PEEK-films hebben een hoge maatnauwkeurigheid en ultralage interne spanning, waardoor ze bestand zijn tegen kromtrekken en krimpen bij cycli bij hoge temperaturen. Met een uniforme statisch-dissipatieve dispersie en nuldeeltjesdiffractie voorkomt het materiaal het loslaten van zwarte microdeeltjes in vacuümomgevingen met hoge temperaturen, waardoor verontreiniging van wafers en optische lenzen effectief wordt vermeden en de risico's van opbrengstvermindering worden verminderd.
3. Het weerstandsverschil tussen de machinerichting en de dwarsrichting op dezelfde filmrol is minimaal. De algehele weerstandsafwijking binnen een enkele rol en tussen verschillende batches wordt strikt gecontroleerd binnen één orde van grootte.
4. Wij bieden op maat gemaakte weerstandsklassen, filmdiktes en snijgroottes voor wereldwijde klanten op het gebied van halfgeleiders, precisie-elektronica en ruimtevaart. Klanten kunnen producttekeningen, bedrijfstemperatuurparameters en vereisten voor oppervlakteweerstand indienen. Ons engineeringteam levert binnen 24 uur een compleet materiaalprestatierapport en een fabrieksofferte.
A1. Zuiver ongevuld PEEK levert uitstekende isolatieprestaties met een oppervlakteweerstand tot 10¹⁴ Ω/sq. Het accumuleert gemakkelijk statische lading, die ultraprecieze componenten zoals wafers en IC-chips kan beschadigen. ESD-gemodificeerde PEEK-film dissipeert effectief statische elektriciteit terwijl alle superieure mechanische, thermische en chemische eigenschappen van pure PEEK-hars volledig behouden blijven.
A2. Nee. Het afstoten van deeltjes is het gevolg van een zwakke binding op het grensvlak van de koolstofvezel en de harsmatrix, die wordt gevormd tijdens de stroomopwaartse formulering en granulatie. Daaropvolgend polijsten en reinigen kan alleen zwevend koolstofpoeder aan het oppervlak verwijderen, maar kan interne grensvlakdefecten niet repareren. Wrijving zal na langdurig gebruik nog steeds deeltjesverlies veroorzaken.
A3. Hoogwaardige met koolstofvezel gevulde ESD PEEK vormt een stabiel intern geleidend netwerk zonder veroudering of prestatieverlies. In tegenstelling tot antistatische films met een oppervlaktecoating zijn de statisch-dissipatieve eigenschappen ervan permanent. Als de vezel-matrix-interface echter beschadigd is, zal de voortdurende, door wrijving veroorzaakte ophoping van vuil de lokale ESD-prestaties veranderen.
A4. Met koolstofvezel gevulde ESD PEEK vertoont inherente geleidende anisotropie veroorzaakt door de stromingsoriëntatie van de vezels tijdens extrusie. Door slechts één richting te testen, kunnen abnormale interne prestaties niet worden gedetecteerd. De inspectie van het eindproduct moet zowel de weerstandstests in de machinerichting (MD) als in de dwarsrichting (TD) omvatten om anisotropie te controleren en inconsistenties in de batchkwaliteit voor klanten te voorkomen.
A5. Tijdens het gieten worden koolstofvezels uitgelijnd langs de materiaalstroomrichting, waardoor een natuurlijke geleidende anisotropie ontstaat. Door de industrie gekwalificeerde tolerantie maakt een weerstandsverschil van maximaal één orde van grootte mogelijk tussen stromings- en dwarsrichtingen. Een afwijking groter dan twee ordes van grootte wordt als ongekwalificeerd beschouwd. Daarom moeten beide richtingsweerstanden worden getest tijdens inkomende inspectie.
A6. Volgens de industriestandaard wordt PEEK-materiaal met een dikte ≤ 0,5 mm gedefinieerd als ESD PEEK-film, die over het algemeen wordt geproduceerd en geleverd in continue rolvorm. Materiaal met een dikte > 0,5 mm wordt geclassificeerd als ESD PEEK-plaat, vervaardigd via massief plaatgieten. De twee categorieën hanteren verschillende vorm- en productieprocessen.
